某半导体材料开发企业主因晶圆的洗涤工作产生了含氨废渣，储水量200吨/天。废渣中除挥发酚外还带有氟化物和氢化物发生器高价属，整理麻烦大。偏远地区废气直接排放标准规范规定要求挥发酚＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 化工废水组成及源头 晶圆刷洗废气（关键来原）：含氟化物200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀工艺程序生产废水：含进样器铜、镍等天价属，pH值变化大 CMP研磨机工业废水：含硅粒状及氧化还原电位 治理的工艺程序流程 使用"有机化学析出+膜脱离+折点氯化"组合成加工制作工艺 ： 预处置 ：加药系统CaCl2除氟，设定pH在7.5-8. 超滤膜模式 ：消除0.01μm以上内容粒状物 反渗透膜工作会更精提 ：将氯离子浓缩咖啡至1000mg/L以下 折点氯化 ：正确调节氯污泥脱水量，将氟化物转变成为氢气 亚铁离子交流 ：保障机制巨资属符合标准 然后成果 氟化物不稳＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属占比达不到判断限 水中水回用率达75% 污水制造量限制40%